KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备

KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 上海伯东代理美国 KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 实现高质量薄膜! 超高真空环境的特征为其真空压力低于 10-8至10-12托, 且在化学, 物理和工程领域十分常见. 超高真空环境对于科学研究非常重要, 因实验通常要求在整个实验的过程中, 表面应保持无污染状态并可使用较低能量的电子和离子的实验技术使用, 而不会受到气相散射的干扰并可以在这样超高真空环境下使用溅镀系统以提供高质量的薄膜.

上海伯东美国 KRI 提供霍尔离子源, 考夫曼离子源和射频离子源, 历经 40 年改良及发展已取得多项专. 广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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